OPTM 系列显微分光膜厚仪

产品特色

● 非接触、非破坏式，量测头可自由集成在客户系统内

● 初学者也能轻松解析建模的初学者解析模式

● 高精度、高再现性量测紫外到近红外波段内的绝对反射率，可分析多层薄膜厚度、光学常数（n：折射率、k：消光系数）

● 单点对焦加量测在1秒内完成

● 显微分光下广范围的光学系统（紫外 ~ 近红外）

● 独立测试头对应各种inline定制化需求

● 最小对应spot约3μm

● 独家专利可针对超薄膜解析nk

量测项目

●绝对反射率分析

●多层膜解析（50层）

●光学常数（n：折射率、k：消光系数）

膜或者玻璃等透明基板样品，受基板内部反射的影响，无法正确测量。OPTM系列使用物镜，可以物理去除内部反射，即使是透明基板也可以实现高精度测量。此外，对具有光学异向性的膜或SiC等样品，也可完全不受其影响，单独测量上面的膜。

（专利编号    第 5172203 号）

应用范围

● 半导体、复合半导体：硅半导体、碳化硅半导体、砷化镓半导体、光刻胶、介电常数材料

● FPD：LCD、TFT、OLED（有机EL）

● 资料储存：DVD、磁头薄膜、磁性材料

● 光学材料：滤光片、抗反射膜

● 平面显示器：液晶显示器、薄膜晶体管、OLED

● 薄膜：AR膜、HC膜、PET膜等

● 其它：建筑用材料、胶水、DLC等

规格式样

（自动XY平台型）

	OPTM-A1	OPTM-A2	OPTM-A3
波长范围	230 ~ 800 nm	360 ~ 1100 nm	900 ~ 1600 nm
膜厚范围	1nm ~ 35μm	7nm ~ 49μm	16nm ~ 92μm
测定时间	1秒 / 1点以内
光径大小	10μm (最小约3μm)
感光元件	CCD		InGaAs
光源规格	氘灯+卤素灯		卤素灯
尺寸	556(W) X 566(D) X 618(H) mm (自动XY平台型的主体部分)
重量	66kg（自动XY平台型的主体部分）

OPTM 选型

自动XY平台型

固定框架型

嵌入头型

波长与膜厚范围

选型表

波长范围	自动XY平台型	固定框架型	嵌入头型
230 ~ 800nm	OPTM-A1	OPTM-F1	OPTM-H1
360 ~ 1,100nm	OPTM-A2	OPTM-F2	OPTM-H2
900 ~ 1,600nm	OPTM-A3	OPTM-F3	OPTM-H3

 

物镜

 

类型	倍率	测量光斑	视野范围
反射对物型	10x lens	Φ 20μm	Φ 800μm
	20x lens	Φ 10μm	Φ 400μm
	40x lens	Φ 5μm	Φ 200μm
可视折射型	5x lens	Φ 40μm	Φ 1,600μm

量测案例

半导体行业 – SiO2、SiN膜厚测定案例

半导体工艺中，SiO2用作绝缘膜，而SiN用作比SiO2更高介电常数的绝缘膜，或是用作CMP去除SiO2时的阻断保护，之后SiN也被去除。绝缘膜的性能像这样被使用时，为了精确的工艺控制，有必要测量这些膜厚度。

FPD行业 – 彩色光阻膜厚测定

彩色滤光片薄膜的制程中，一般将彩色光阻涂布在整个玻璃表面，通过光刻进行曝光显影留下需要的图案。RGB三色依次完成此工序。

彩色光阻的厚度不恒定是导致RGB图案变形、彩色滤光片颜色偏差的原因，因此对彩色光阻的膜厚管理非常重要。

FPD行业 – 用倾斜模式解析ITO构造

ITO膜是液晶面板等使用的透明电极材料，制膜后需经过退火处理(热处理)提升导电性和透光性。此时，氧状态和结晶性发生变化，使得膜厚产生阶段性的倾斜变化。在光学上不能看作是构成均一的单层膜。

对这样的ITO用倾斜模式，由上部界面和下部界面的nk值，对倾斜程度进行测量。

半导体行业 – 使用界面系数测定粗糙基板上的膜厚

如果基板表面非镜面且粗糙度大，则由于散射，测量光降低且测量的反射率低于实际值。

通过使用界面系数，因为考虑到了基板表面上的反射率的降低，可以测量出基板上薄膜的膜厚值。

DLC涂层行业 – 各种用途DLC涂层厚度的测量

DLC(类金刚石)涂层由于其高硬度、低摩擦系数、耐磨性、电绝缘性、高阻隔性、表面改性以及与其他材料的亲和性等特征，被广泛用于各种用途。

采用显微光学系统，可以测量有形状的样品。此外，监视器一边确认检查测量位置一边进行测量的方式，可以用于分析异常原因。