光波场三维显微镜 MINUK

产品介绍

 

特征

• 可以透明地评估纳米量级的污染物和缺陷。
• 单次拍摄瞬时深度信息
• 无需对焦即可实现高速测量
• 非破坏性、非接触式和非侵入式测量
• 高速扫描任何表面，便于确定测量位置

规格

分辨率 x，y	691 nm（单次），488 nm（成分）
视场 x，y	700×700微米
分辨率 z	10 nm（延迟）
数字重对焦范围 z	±700微米
样本量	100×80×t20 mm
	（连接多功能样品架时）
样品台	用于微调的自动 XY 载物台
	X：±10 mm Y：±10 mm
	用于粗调的载物台
	X：129 mm Y：85 mm
激光	波长 638 nm
	输出 0.39 mW 以下，Class1
	（对样品的照射强度）
描述	主机：505（W）×630（D）×439（H）
（宽度×深度×高度）毫米
重量	41 千克
功耗	主机：290 VA
	*不包括PC和配件。

应用

纳米阶的形状信息可以通过非接触、非破坏性和非侵入性的方式获得。通过单次拍摄获取深度方向信息，可以可视化和量化透明薄膜表面的划痕以及肉眼看不见的缺陷的横截面形状。

透明薄膜内的填充物可以在一次拍摄中观察到，这是肉眼看不见的。此外，通过在测量后改变深度方向的焦点，可以识别每个深度的填料。